Плазмотрон для плавки

Главная / Домашнее аудио и видео / Плазмотрон для плавки

Как устроен трансформатор

Для упрочнения металлических деталей используется плазмотроны косвенного действия см. Схема получения нанопорошков оксида циркония в плазме ВЧ-разряда Использование газоразрядной плазмы в микроэлектронных технологиях. Это и позволило плазмотронам прямого действия широко использоваться в промышленной отрасли для плавки или переплавки высококачественных металлов. Рассмотрим некоторые из этих технологий более подробно.

Rachel обувь

Они, в свою очередь, подключены последовательно к цепи питания плазмотрона. Использование плазменной карботермии для восстанов.

Детскaя одеждa шaлуны в aстaне

Основные особенности высокочастотного разряда. Это процесс нанесения на поверхность заготовки упрочняющих слоев большой толщины. Содержание Нагрев в вакуумном технологическом.

Абсолютно голая анастасия заваратнюк в стрингах

Такое распространение данный метод получил благодаря тому, что имеет практически неограниченную возможность получения мощности, а также высокий КПД. Не плавящийся катод плазмотрона выполнен из толстого вольфрамового прутка, зажатого в медной токоведущей цанге.

Схема технологического процесса плазменного плавления и кристаллизации металлов: В общем, плазменно-дуговая плавка металла имеет высокие перспективы для получения чистых и качественных металлических материалов, а также для реализации такой технологии на любом производстве.

Дисперсность УДП составляет нм. Распыляемый материал 3 под действием плазменной струи переходит в атомарное состояние, атомы вещества осаждаются на подложке 2образуя прочную пленку, толщина которой определяется временем экспозиции.

В устройствах второй группы плазмотроны косвенного действия, см. В результате деталь из дешевого металла приобретает высокие свойства, характерные для дорогих изделий.

Применение плазменной дуги в металлургии — новое, интенсивно развивающееся направление. Указанные свойства полимерных резистов изменять свою растворимость после экспонирования используются в литографии для формирования рисунка микросхемы. Нагрев в вакуумном технологическом. Регулируя скорость вращения кристаллизатора, можно получать частицы порошка разной дисперсности. Высокочастотные и плазменные процессы в технологии. Главный недостаток плазмохимического синтеза - широкое распределение частиц по размерам, и вследствие этого наличие довольно крупных до 3 мкм частиц.

Литографический процесс включает следующие этапы: Плазменные, высокочастотные, микроволновые и лазерные технологии в химико-металлургических процессах. Технология плазменной плавки, плавления, напыления.

Понравилась статья? Жми лайк!

Похожие статьи: